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产品技术
半导体
集成电路
iTomic® HiK系列原子层沉积系统
iTronix®系列化学气相沉积系统
iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统
iTomic® PE系列等离子体增强原子层沉积系统
先进封装
iTronix®系列化学气相沉积系统
iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统
iTomic® PE系列等离子体增强原子层沉积系统
MEMS
iTomic® HiK系列原子层沉积系统
iTronix®系列化学气相沉积系统
iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统
iTomic® Lite系列轻型原子层沉积系统
硅基微显示
iTronix®系列化学气相沉积系统
iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统
泛半导体
iTomic® HiK系列原子层沉积系统
iTronix®系列化学气相沉积系统
iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统
iTomic® Lite系列轻型原子层沉积系统
其他
Trancendor®晶圆真空传输系统
光伏
硼扩散
羲和®系列高温低压系统
退火
羲和®系列高温低压系统
隧穿氧化/多晶硅沉积
祝融系列ZR5000×2管式PECVD ToxPoly All-in-one 系统
祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系统
祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系统
正膜Al₂O₃/SiNₓ
祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系统
祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系统
正膜Al₂O₃
夸父®系列KF20000批量式ALD系统
背膜SiNₓ
祝融系列ZR5000×1管式PECVD系统
阻隔封装
电子传输层 SnOₓ
界面层/封装层 AIOₓ
产业化应用中心
产业化应用中心
iTomic® MW Lite批量轻型系列原子层沉积系统
iTomic® PE系列等离子体增强原子层沉积系统
朱雀系列粉末原子层沉积系统
后羿®系列 板式ALD系统
iSparol系列卷对卷ALD系统
泛半导体
iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统
iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统采用创新的批量型（mini-batch）腔体设计，可一次处理25片12英寸晶圆，适用于成膜镀率低，厚度要求高，以及产能要求高的关键工艺及应用。iTomic® MW系列产品利用特有的流场设计，具有成膜速度快，占地面积小，产能高、使用成本低等优势，为存储芯片以及Micro-OLED显示器、MEMS等提供定制化量产的解决方案。
销售邮箱
semisale@leadmicro.com
产品特点
25片12寸晶圆（兼容8寸晶圆）MW ALD系统，适用于厚膜或生长率较低的工艺需求
1
提供优异的薄膜片内（WiW）和片间（WtW）均匀性，更好地满足客户工艺需求
2
薄膜材料：Al₂O₃、HfO₂、SiO₂等
3
与炉管型设备相比，MW ALD系列在减少颗粒度的同时大大降低了热过程，避免芯片器件在制程中的热损伤
4
特别适用于高产能、超高深宽比结构器件的量产化镀膜工艺
5
前台热线：
0510-81975900
公司地址：
江苏省无锡市新吴区长江南路27号
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