首页
关于365体育
公司概况
市场战略
发展历程
资质荣誉
创新驱动
研发创新
智造创新
服务创新
产品及解决方案
半导体
光伏
产业化应用中心
新闻中心
公司动态
行业资讯
展会活动
社会责任
招贤纳士
薪资福利
员工风采
岗位招聘
联系我们
联系方式
客户入口
供应商入口
投资者关系
CN
首页
关于365体育
公司概况
市场战略
发展历程
资质荣誉
创新驱动
研发创新
智造创新
服务创新
产品及解决方案
新闻中心
公司动态
行业资讯
展会活动
社会责任
招贤纳士
薪资福利
员工风采
岗位招聘
联系我们
联系方式
客户入口
供应商入口
投资者关系
产品技术
半导体
集成电路
iTomic® HiK系列原子层沉积系统
iTronix®系列化学气相沉积系统
iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统
iTomic® PE系列等离子体增强原子层沉积系统
先进封装
iTronix®系列化学气相沉积系统
iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统
iTomic® PE系列等离子体增强原子层沉积系统
MEMS
iTomic® HiK系列原子层沉积系统
iTronix®系列化学气相沉积系统
iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统
iTomic® Lite系列轻型原子层沉积系统
硅基微显示
iTronix®系列化学气相沉积系统
iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统
泛半导体
iTomic® HiK系列原子层沉积系统
iTronix®系列化学气相沉积系统
iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统
iTomic® Lite系列轻型原子层沉积系统
其他
Trancendor®晶圆真空传输系统
光伏
硼扩散
羲和®系列高温低压系统
退火
羲和®系列高温低压系统
隧穿氧化/多晶硅沉积
祝融系列ZR5000×2管式PECVD ToxPoly All-in-one 系统
祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系统
祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系统
正膜Al₂O₃/SiNₓ
祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系统
祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系统
正膜Al₂O₃
夸父®系列KF20000批量式ALD系统
背膜SiNₓ
祝融系列ZR5000×1管式PECVD系统
阻隔封装
电子传输层 SnOₓ
界面层/封装层 AIOₓ
产业化应用中心
产业化应用中心
iOptomic 系列原子层沉积系统
iTomic® PE系列等离子体增强原子层沉积系统
后羿®系列 板式ALD系统
iSparol系列卷对卷ALD系统
iTomic® MW Lite批量轻型系列原子层沉积系统
泛半导体
iTomic® HiK系列原子层沉积系统
iTomic® HiK系列原子层沉积系统,适用于客户制程高介电常数(High- 𝘬 )栅氧层、MIM电容器绝缘层、TSV介质层等薄膜工艺需求;ALD系列设备凭借原子级别的精确控制、沉积薄膜的高覆盖率和超薄膜厚的均匀性可为逻辑芯片、存储芯片提供介质层等关键工艺解决方案,技术和设备指标达到国内一流、国际先进水平。
销售邮箱
产品特点
12英寸单片热ALD量产设备(兼容8英寸)
1
采用原创设计的反应腔和源输送加热系统,可满足优异的薄膜均匀性和重复性,更适合三维和高深宽比器件结构的薄膜生长
2
薄膜材料:Al₂O₃、HfO₂、HfSiO、SiO₂、金属化等工艺
3
配置有4种独立的高温前驱体输送系统,满足ALD薄膜多元化掺杂工艺需求
4