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产品技术
半导体
集成电路
iTomic® HiK系列原子层沉积系统
iTronix®系列化学气相沉积系统
iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统
iTomic® PE系列等离子体增强原子层沉积系统
先进封装
iTronix®系列化学气相沉积系统
iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统
iTomic® PE系列等离子体增强原子层沉积系统
MEMS
iTomic® HiK系列原子层沉积系统
iTronix®系列化学气相沉积系统
iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统
iTomic® Lite系列轻型原子层沉积系统
硅基微显示
iTronix®系列化学气相沉积系统
iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统
泛半导体
iTomic® HiK系列原子层沉积系统
iTronix®系列化学气相沉积系统
iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统
iTomic® Lite系列轻型原子层沉积系统
其他
Trancendor®晶圆真空传输系统
光伏
硼扩散
羲和®系列高温低压系统
退火
羲和®系列高温低压系统
隧穿氧化/多晶硅沉积
祝融系列ZR5000×2管式PECVD ToxPoly All-in-one 系统
祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系统
祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系统
正膜Al₂O₃/SiNₓ
祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系统
祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系统
正膜Al₂O₃
夸父®系列KF20000批量式ALD系统
背膜SiNₓ
祝融系列ZR5000×1管式PECVD系统
阻隔封装
电子传输层 SnOₓ
界面层/封装层 AIOₓ
产业化应用中心
产业化应用中心
iTomic® MW Lite批量轻型系列原子层沉积系统
iTomic® PE系列等离子体增强原子层沉积系统
朱雀系列粉末原子层沉积系统
后羿®系列 板式ALD系统
iSparol系列卷对卷ALD系统
硅基微显示
iTronix®系列化学气相沉积系统
iTronix®系列化学气相沉积（CVD）系统采用自主研发的反应腔室和电气软件集成化服务，在逻辑、存储、先进封装、显示器件等芯片制造领域具有广泛应用，可满足多种功能性薄膜沉积工艺的开发和应用需求。搭载新型平台可安装更多反应腔以满足高产能需求。
销售邮箱
semisale@leadmicro.com
产品特点
高精度压力调节控制技术，提高薄膜阶梯覆盖率
1
可以控制膜的成份和结构，满足多元掺杂工艺需求
2
自主研发高精度制程边缘控制技术，减少晶圆去边，提高晶圆利用率
3
带ESC多区加热陶瓷盘，可以实现高温工艺，减少背面沉积，避免等离子体损伤
4
自主设计的多区域吹扫功能，减少颗粒污染，延长清洗周期
5
多区域温度控制设计，温度控制精度高，薄膜均匀性好
6
前台热线：
0510-81975900
公司地址：
江苏省无锡市新吴区长江南路27号
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